● 采用氣體作為清洗介質，避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。
● 可短時間內清洗掉有機污染物。
● 清洗程度可達到分子級。
● 可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。
● 清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。
● 樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。
● 廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。

● 電壓：AC220V  10A
● 消耗功率：<500W（包括真空泵）
● RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz
● 腔體：Φ190mm×98mm
● 石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
● 內腔：Φ165mm×55mm
● 清洗電極：Φ120mm
● 樣品臺：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
● 樣品臺與電極間距：15mm-50mm
● 可調抽氣管：Φ12mm
● 極限真空度：0.1Pa
● 工作真空度：60Pa-500Pa
● 氣路數量：2路（選裝）
● 流量控制器數量：1、2
● 流量顯示儀：2通道
● 氣路接口：Φ6mm
● 加熱樣品臺：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝）
● 冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa
● 工作環(huán)境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對濕度）不結露，海拔高度0-2000m

● 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
● 重量：20kg（不含真空泵）

● 加熱樣品臺
● 流量控制器（量程10、50、100，最多可增加2個通道）