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1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

簡(jiǎn)要描述:VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。
VTC-1RF 1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號(hào): VTC-1RF

所屬分類:等離子鍍膜設(shè)備

更新時(shí)間:2024-11-05

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

詳情介紹


VTC-1RF 1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),

配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,

特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜

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性能指標(biāo)和基本配置
輸入電源● 220VAC 50/60Hz, 單相
● 800W (包括真空泵)
等離子源● 配有一13.5MHz,100W的射頻電源(采用手動(dòng)匹配)
● 可選配300W射頻電源(自動(dòng)匹配)
● 注意:100W手動(dòng)調(diào)節(jié)的RF(射頻)電源價(jià)格較低,但是每一次對(duì)于不同的靶材,都需要手動(dòng)設(shè)置參數(shù)才能產(chǎn)生等離子體,比較耗費(fèi)時(shí)間。300W自動(dòng)匹配的RF(射頻)電源,價(jià)格較昂貴,但比較節(jié)約時(shí)間。(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)
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磁控濺射頭● 一個(gè)1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
● 靶材尺寸: 直徑為25.4mm,最大厚度3mm
● 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上
● 濺射頭所需冷卻水:流速10L/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16L/min的循環(huán)水冷機(jī))
● 同時(shí)可選配2英寸濺射頭
● 選配2英寸濺射頭靶材尺寸:直徑為50.8mm,最大厚度6mm
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真空腔體● 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H,采用高純石英制作
● 密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
● 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體
● 真空度:<1.0×10-2 Torr (采用雙極旋片真空泵)

<5×10-5 torr (采渦旋分子泵)


載樣臺(tái)● 載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
● 載樣臺(tái)尺寸:直徑50mm (最大可放置2英寸的基片)
● 旋轉(zhuǎn)速度:1 - 20 rpm
● 樣品臺(tái)的最高加熱溫度為700℃(短期使用,恒溫不超過(guò)1小時(shí)),長(zhǎng)期使用溫度500℃
● 控溫精度+/- 10℃
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真空泵● 我公司有多種真空泵可選,請(qǐng)點(diǎn)擊圖片,或是致電我公司銷售
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薄膜測(cè)厚儀● 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
● LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
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質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證● 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)
● CE認(rèn)證
外形尺寸image.png
使用注意事項(xiàng)● 這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
● 為了較好地排出真空腔體中的氧氣,建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗2-3次,可有效減少真空腔體中的氧含量
● 請(qǐng)用純度大于5N的Ar來(lái)進(jìn)行等離子濺射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)
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VTC-1RF 1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

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