選擇性刻蝕太陽能器件（鈣鈦礦電池/OPV/碲化鎘）的不同功能層來完成太陽能組件的制備，能有效的有選擇性的在不同基底（包括剛性和柔性）去除TCO、吸收層、背電極層。P1 TCO+吸收層/P2 吸收層/P3 背電極+吸收層采用皮秒綠光或皮秒紫外激光刻蝕；P4 采用納秒紅外激光刻蝕清邊；

最大基片尺寸400mm*400mm（可定制其他尺寸）;

死區(qū)面積最小寬度150μm（激光可實現(xiàn)最小值小于100μm，考慮功能性最小值150μm）;

能有效控制激光在操作過程中對已有材料的熱影響、火山口、缺陷控制;

兼容基板厚度0.01-40mm;

直線度小于±3μm/300mm;

同款機器具備P0打標功能，可實現(xiàn)自動跳號，可實現(xiàn)自動跳號。P2.5激光分區(qū)，P3.5激光打點，P4.5邊緣劃線；

設備采用雙光路設計，P2&P3層采用皮秒綠光或皮秒紫外激光器，P1&P4層采用納秒紅外激光器，P1也可以用皮秒綠光或皮秒紫外激光器；

適合對導電玻璃、薄膜進行精細激光刻蝕；

采用自主研發(fā)的控制軟件，直接導入CAD數(shù)據(jù)，CCD相機定位自動激光刻蝕，操作簡單，方便快捷；

采用通過軟件實時調節(jié)振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設計，加上真空吸附托盤裝置，能有效地解決激光刻蝕加工運行中的平穩(wěn)性。